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Semitool SRD甩干機,Semitool甩干機,雙腔室晶圓甩干機,半導(dǎo)體硅片甩干機

一、設(shè)備概況1.1應(yīng)用領(lǐng)域:晶圓甩干機是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備,具有高潔凈沖洗,高速甩干,快速烘干,效率高的特點,不同晶圓尺寸,可通過快速更換轉(zhuǎn)子來實現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,設(shè)備本身有單腔室和雙腔室兩種結(jié)構(gòu),體型小運行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。1.2名稱:雙腔室甩干機1.3型號:SemiTool870S二、主要技術(shù)參數(shù)項目主要性能指標

晶圓單片清洗機,晶圓甩干機,單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測強光燈,單片甩干機,梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機


一、設(shè)備概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域晶圓甩干機是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備具有高潔凈沖洗,高速甩干,快速烘干,效率高的特點,不同晶圓尺寸,可通過快速更換轉(zhuǎn)子來實現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,設(shè)備本身有單腔室和雙腔室種結(jié)構(gòu),體型小運行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。

1.2名稱雙腔室甩干機

1.3型號SemiTool 870S

二、主要技術(shù)參數(shù)

項目

主要性能指標和參數(shù)

加工硅片尺寸

2-6 英寸圓片

單次甩干數(shù)量

50

工位數(shù)量(個)

2

顆粒增加值

客戶要求

旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN

200-2200

甩干時間

5-8min

腔室及氮氣加熱方式

電加熱器

氮氣壓力

0.25-0.3Mpa,氮氣管接口3/8”

氮氣耗量 L/min

80

純水壓力

0.25-0.3Mpa, 管接口3/8”

排水管

40mm圓管 PVC

控制系統(tǒng)

三菱PLC可編程控制器

顯示

4.3寸觸摸屏

電源

AC220V

整機功率

5 KW

外型尺寸(深**高)mm

710mm*460mm*1850mm




關(guān)聯(lián)內(nèi)容

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