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全自動單片晶圓清洗機,自動晶圓清洗機,晶圓清洗機

應用領域RCA清洗,沉積前清洗,蝕刻后清洗,CMP后清洗,濕法刻蝕,EPI前清洗等晶圓尺寸:50~300mm工藝指標蝕刻均勻性:片內(nèi):≤3%;片間:≤3%;批次間:≤3%;顆粒控制:增加值<20顆@0.2微米金屬離子:<5E10 atoms/cm2設備配置2-6個清洗工位全自動潔凈晶圓機械手中央化學藥液供應系統(tǒng):CDS,支持化學液加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等兆聲波清洗系統(tǒng)3

晶圓單片清洗機,晶圓甩干機,單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測強光燈,單片甩干機,梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機

應用領域

RCA清洗,沉積前清洗,蝕刻后清洗,CMP后清洗,濕法刻蝕,EPI前清洗等晶圓

尺寸:50~300mm

工藝指標

蝕刻均勻性:片內(nèi):≤3%;片間:≤3%;批次間:≤3%;

顆??刂疲涸黾又?lt;20顆@0.2微米

金屬離子:<5E10 atoms/cm2

設備配置

2-6個清洗工位

全自動潔凈晶圓機械手

中央化學藥液供應系統(tǒng):CDS,支持化學液

加熱控制,濃度控制,流量控制,壓力控制等

兆聲波清洗系統(tǒng)30W:0.1微米以下顆粒

酸、堿、有機液排風分離

支持化學液回收

高清攝像頭,純水防靜電裝置(可選)

全面支持SECS/GEM通訊協(xié)議



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