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8寸晶圓甩干機(jī),12寸晶圓甩干機(jī),晶圓甩干機(jī),硅片甩干機(jī)

一、設(shè)備概況1.1應(yīng)用領(lǐng)域:晶圓甩干機(jī)是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備,具有高潔凈沖洗,高速甩干,快速烘干,效率高的特點(diǎn),不同晶圓尺寸,可通過(guò)快速更換轉(zhuǎn)子來(lái)實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,設(shè)備本身有單腔室和雙腔室2種結(jié)構(gòu),體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。1.2名稱:雙腔室甩干機(jī)1.3型號(hào):CSM880S1.4尺寸:710mm*520mm*185

晶圓單片清洗機(jī),晶圓甩干機(jī),單晶爐,多晶爐,區(qū)熔爐,,晶片檢測(cè)強(qiáng)光燈,單片甩干機(jī),梅耶博格內(nèi)圓鋸,晶圓倒角機(jī)


一、設(shè)備概況

1.1應(yīng)用領(lǐng)域:晶圓甩干機(jī)是高潔凈度沖洗甩干設(shè)備具有高潔凈沖洗,高速甩干,快速烘干,效率高的特點(diǎn),不同晶圓尺寸,可通過(guò)快速更換轉(zhuǎn)子來(lái)實(shí)現(xiàn)。是濕法清洗工藝的主要設(shè)備,設(shè)備本身有單腔室和雙腔室2種結(jié)構(gòu),體型小運(yùn)行平穩(wěn)。其主要用于2-8英寸半導(dǎo)體晶圓、掩膜板、各種基片等材料的高潔凈度沖洗及干燥工藝。

1.2名稱:雙腔室甩干機(jī)

1.3型號(hào):CSM880S

1.4尺寸:710mm*520mm*1850mm  

1.5晶圓規(guī)格:8-12 英寸

1.6材質(zhì):不銹鋼機(jī)架+10mm PP板外殼

1.7設(shè)備機(jī)架:SUS304不銹鋼材料,能夠滿足潔凈室工作環(huán)境。

1.8腔體和載體采用耐腐蝕SUS316L不銹鋼并電化學(xué)拋光。片架載體可方便更換。

1.9電機(jī)及轉(zhuǎn)子經(jīng)精密的動(dòng)平衡處理,減少設(shè)備共振。

二、工藝流程

去離子水旋轉(zhuǎn)沖洗+離心甩干氮?dú)夂娓?/span>

建議工藝參數(shù):

階段

沖水

吹凈

烘干1

烘干2

時(shí)間

60s

30s

200S

100S

速度

800r/min

1000r/min

1800r/min

1500r/min

介質(zhì)

去離子水

氮?dú)?/span>

氮?dú)?/span>

氮?dú)?/span>

氮?dú)鉁囟?/span>

無(wú)

0°

80°

80°

 

三、主要技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目

主要性能指標(biāo)和參數(shù)

加工硅片尺寸

8-12英寸圓片

單次甩干數(shù)量

50

工位數(shù)量(個(gè))

2

碎片率

0.01%

顆粒增加值

需與客戶確認(rèn)

旋轉(zhuǎn)速度 RPM/MIN

200-2200

甩干時(shí)間

5-8min

腔室及氮?dú)饧訜岱绞?/span>

電加熱器

氮?dú)鈮毫?/span>

0.25-0.3Mpa,氮?dú)夤芙涌?/span>3/8”

氮?dú)夂牧?/span> L/min

90

純水壓力

0.25-0.3Mpa 管接口3/8”

排水管

40mm圓管 PVC

控制系統(tǒng)

三菱PLC可編程控制器

顯示

4.3寸觸摸屏

電源

AC220V

整機(jī)功率

6 KW

外型尺寸(深**高)mm

710mm*520mm*1850mm




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